公开号：	US2007235320A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	具有配气管道的溅射反应室
摘要：	提供一种大面积基板上溅射处理装置。使全部气体通过目标表面，，在板上可能形成成分均匀的薄膜。当气体只是引入到周边时，气体分布并不均匀。通过引入气体经过加工区域，反应气体将均匀分布到整个目标区域。此外，提供多种气体管道可以提供一种快速，高效气体分散能力。