公开号：	US2007251815A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	制备类金刚石碳膜的方法
摘要：	本专利中，我们报道了一种制备类金刚石碳膜（DLC）的方法。该方法主要包括以下步骤：（a）在真空室中固定基底；（b）将反应室的压力抽到10<SUP>-6</SUP>torr；（c）在真空室中引进至少一种含碳的气体；（d）通过溅射石墨靶子，在基底上沉积类金刚石的碳膜。最终得到的DLC薄膜呈现出很薄的片状。基底上面沉积的DLC薄膜的外观是类玫瑰的样貌。另外，DLC薄膜的厚度是毫米级的，密度是纳米级别的。由于沉积的片状的DLC薄膜有很大的比表面积值，因此这种DLC薄膜能够提高场发射的强度。