公开号：	US2007254094A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	制备跟踪光刻工具过程中的控制点胶操作的方法和装置
摘要：	本专利介绍了一种制备跟踪光刻工具过程中，在基底上点滴光刻用的化学物的方法，其中，包括确定光刻过程中多个靶区中每个靶子的体积。计算每个靶区对应的泵的控制参数，调节特征函数，使其与增量基于体积的特征因数一致，作为靶体积的函数，则最终得到了给定体积的靶的合适的控制参数。具体如下，控制参数是很多用于位移泵马达的驱动脉冲，移除掉选择体积内的化合物，因此得到所需要的体积目标。另外，多步点胶工艺每一步的控制参数都是可以确定的。这个方法包括提供控制信号给点胶泵，准确控制了光刻用化合物到基底的传递。