公开号：	US2007281075A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	光测法监测纳米薄膜表面结构及其厚度
摘要：	监测纳米晶体薄膜表面结构和厚度的方法是监测由气象沉积获得的具有低体积分率的包含一个高折射指数并且表层低体积分率的多相的双层结构特征的纳米晶体薄膜的表面结构。这种具有特征光学信号的双层膜结构可以用于纳米晶结构的特征模拟。也就是说，薄膜的沉积制备过程如果其结构满足双层膜结构的光学信号，就可以说膜层具有纳米晶体的特征结构。因此，在这种制作过程中，用光学仪器去测试薄层、基底和计算光学参数，由此纳米晶薄膜表面结构及其厚度可以被精确的监测。