公开号：	US2007286954A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	非结晶碳层的低温沉积方法
摘要：	本发明为改性的阶梯性覆盖的非结晶碳层低温沉积方法。本文主体部分介绍本方法需要包括在沉积过程中包括一个基底，沉积过程包括一种大于五个碳原子的烃和一种惰性气体，保持基底温度低于450℃，然后在基地上沉积无定型碳膜。