公开号：	US2008035059A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	化学气相沉积反应器
摘要：	化学气相沉积反应器（CVDreactor）包括一个水平的涂层板和一个热灯丝的动力控制源。化学气相沉积反应器包括反应腔，腔内有可旋转的电极，热灯丝与旋转的电极相连在基地上形成水平涂层板，旋转可控的旋转热源，当热灯丝由于温度改变伸长时拉伸热灯丝，以防止热灯丝与基底相连。