公开号：	US2008292781A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	监测等离子体的方法，以及执行这一方法的装置，和这一方法在把一个薄膜沉积到性能鉴定试验的空白物质上的应用
摘要：	本发明为一种用于监测等离子体的成分的方法，同时产生于特定的前躯体的等离子体可以把一个薄膜沉积到一个聚合物材料上。这种方法包括接收由等离子体发射的光的强度，同时包括：一个用于选择第一参照波长范围的步骤，波长范围应该在等离子体发射光谱范围内，同时在这一范围内没有明显的寄生的化学物质的信号，也就是说，该范围不是所采用的前躯体的一部分，因此也不会出现在等离子体中，它的存在会影响沉积薄膜的性质；一个用于选择第二波长范围的步骤，波长范围应该在等离子体发射光谱范围内，同时在这一范围内一个明显的寄生的化学物质的信号是可能存在的；一个同时接收在上述的选定的两个范围内由等离子体发出的光强度的步骤；一个基于这些光强度来计算至少一个监测参数的步骤。