公开号：	US7383702B2
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	一种利用PECVD工艺制备磷掺杂心的方法
摘要：	本发明提供了一种在基底上制备低损耗的光波导材料的高度统一的低生产成本的有价值的解决方法。一方面，本发明涉及在基底的包层制备PSG光波导的方法。该基底的下包层至少有一个硅酸盐玻璃光核心。光波导是通过使用等离子增强化学气相沉积工艺制备的，该工艺包括一个硅源气体，氧源气体以及磷源气体，其中氧源气体中的氧原子与硅源气体中硅原子的比例大于20：1。