公开号：	US7413628B2
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	一种基底处理的方法和仪器
摘要：	基底处理方法涉及到对旋转的基底应用处理液。该方法包括以下几步：首先用第一个夹具膜装置夹住基底同时进行基底的第一次旋转；然后，在用第一个夹具夹住基底进行第一次旋转之后，在第二个夹具膜与第一个夹具膜分开的情况下进行基底的第二次旋转；最后，当第一个夹具夹住第基底进行第一次旋转，第二个夹具膜与第一个夹具膜分开然后进行基底的第二次旋转完事后，进行第三次基底旋转。