公开号：	US7442428B2
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	一种气体阻隔基底
摘要：	本发明涉及一种阻隔层没有图凹，针孔或类似缺陷的具有优良气体阻隔性能的气体阻隔基底。本发明解决了如下问题，使气体阻隔基底具有基底材料，在基底材料上形成极化层，在极化层上形成含有沉积膜的气体阻隔层。