公开号：	US7452827B2
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	一种具有排气孔的气体分布淋浴头
摘要：	本发明涉及半导体工件的处理方法。方法包括通过气体分布面板上数个孔中的第一个对半导体工件吹气流。本方法还包括通过一个腔体以及气体分布面板上数个孔中的第二个排气孔将气体从整个半导体工件上除掉，。