公开号：	US2006163202A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法料
专利名：	等离子刻蚀方法
摘要：	采用等离子体刻蚀方法对样品进行加工处理，至少需要一个目标膜层以及位于其上面的图案化掩膜层。加工后的目标膜层表面将图案掩膜的形貌复制下来。这一方法包含两个步骤，第一，在要刻蚀的目标层表面，或者至少是刻蚀层和掩膜层交界处形成一层沉积；掩膜层暴露部分是被图案化之后的。第二，采用等离子体刻蚀第一步沉积后的样品，将暴露部分刻成凹槽。构成凹槽的侧壁边缘通过再次的等离子体刻蚀过程整合掉。