公开号：	US2006205216A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	刻蚀方法和仪器设备
摘要：	这种方法用于选择性刻蚀氮化硅膜，形成氧化硅膜，采用包含电极的加工腔体，腔体内含有加工气体。加工步骤为：抬升目标样品使氧化硅膜和氮化硅膜位于电极上；将气体混合物四氟甲烷、氢气和氮气作为加工气体，并将加工气体通入腔体；采用高频电源0.20瓦每平方厘米或者少于电极电能，加工腔体的气压小于等于4帕斯卡。