公开号：	US2006226125A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	介绍一种化学机械抛光研磨液以及抛光电脑存储磁盘表面的方法
摘要：	这里介绍抛光表面的方法，特别是抛光半导体表面。抛光粉的组成包括液体溶剂、纯黏土，加入合适的附加物包括化学促进剂，化学离子混合剂用来络合并除去金属或非金属物质。抛光过程中络合剂除去金属离子以及二氧化硅粒子，并起到防止粒子再次污染表面的作用。这种抛光办法需要抛光剂和表面进行接触。