公开号：	US2006255015A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	表面修饰的胶体研磨剂，包含用于化学机械抛光的稳定双金属表面覆盖的硅胶
摘要：	这里介绍关于化学机械抛光的相应材料和方法。材料包括表面修饰的抛光剂，这种被稳定剂和一种以上催化剂修饰的抛光剂比以前的产品更具优势。材料组成中还包括由氧化剂和研磨物质组成的介质，氧化剂包括例如过氧化氢等；其中的催化剂主要用来催化氧化基底。研磨剂只要包括氧化铝，二氧化钛，氧化锆，二氧化硅，二氧化铈等混合物；稳定剂只要是硼，钨和铝等物质；催化剂主要为铜、铁、锰钛和钒等。这些催化剂和稳定剂都被固定在研磨剂表面。该方法被应用于抛光含有钨铜及介电材料的表面。