公开号：	US2006261037A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	基底处理方法和处理设备
摘要：	在基底处理设备中，控制电极将处理空间分成两部分，即包括待处理基底和不含基底的等离子体产生腔体。控制电极包括在加工腔体里形成的导电膜和允许等离子体通过的多个光圈。控制电极的表面被氧化铝或导电的氮化物覆盖。在处理设备中，氦气和氮气作为工作气体进入腔体。在等离子体空腔中，通过激发形成氮原子状态，原子态的氮能使表面被氮化。