公开号：	US2006292888A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	制备互联线的刻蚀剂和方法，进一步制备薄膜晶体管的基底
摘要：	这里主要介绍采用刻蚀剂制备多层互联线以及采用刻蚀剂构筑薄膜晶体管基底的方法。多层结构为钼/铜/氮化钼结构，而刻蚀剂含有10-20w%过氧化氢，1-5w%有机酸，0.1-1w%三唑化合物，0.01-0.5w%氟化物。体系主要以去离子水为溶剂。