| 摘要： | 干法刻蚀包含以下几步：将工件要刻蚀部分暴露在沉积气体等离子体中，这种沉积气体包括氟烷烃；将要刻蚀部分暴露在反应器的刻蚀气体的等离子体中；将要刻蚀部分暴露在反应器的沉积气体的等离子体中；将要刻蚀部分暴露在反应器的刻蚀气体的等离子体中。这样交替往复，同样另一干法刻蚀也类似，将工件要刻蚀部分暴露在沉积气体等离子体中，这种沉积气体包括氟烷烃和至少一氧化碳、氢气甲烷中的一种；将要刻蚀部分暴露在反应器的刻蚀气体的等离子体中；将要刻蚀部分暴露在反应器的沉积气体的等离子体中；将要刻蚀部分暴露在反应器的刻蚀气体的等离子体中。如此类推。 |