公开号：	US2007012659A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	通过调节RF刻蚀频率和功率实现高长径比刻蚀
摘要：	这里介绍一种模板刻蚀的方法实现高长径比的刻蚀技术。在加工腔体中放入基底，加工腔体的RF功率可以程序改变。同时腔体可以注入不同加工气体。第一步刻蚀在同一RF功率下改变不同频率。第二步刻蚀采用不同功率下同样改变相应的频率，以此类推。