公开号：	US2007026682A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	先进多重时间刻蚀方法
摘要：	通过掩膜法对基底进行不对称等离子刻蚀的方法包括：在待刻蚀基底表面形成临时掩膜，主要采用沉积前驱气体或液体或等离子体辅助法形成硬掩膜；将待刻蚀部分暴露在相应的气体等离子体下，进行不对称的等离子体刻蚀，最后保留的部分与掩膜结构相符。露出的窗口部分的材料将被刻蚀掉。