公开号：	US2007043230A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	抛光浆液和化学机械抛光方法
摘要：	水相化学机械抛光浆液能够有效地高速地抛光铜表面。这种抛光浆液由溶在氧化剂中的可溶性钼盐组成或溶解在氧化剂中的钼酸组成。采用这种方法抛光铜的过程如下，采用低压力抛光垫进行抛光，采用含钼盐的氧化剂和含钼酸的氧化剂水溶液进行抛光，将三氧化钼粒子溶解于氧化剂溶液中，同样将二氧化钼粒子溶到氧化剂溶液中都可以制得性能优异的抛光浆液。