公开号：	US2007235137A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	气体分配系统作为一种后刻蚀处理系统
摘要：	一中后刻蚀处理系统可以描述为移除光刻胶和刻蚀过程中形成的刻蚀残余物。例如，刻蚀残余物可以是含有卤素的材料。后刻蚀处理系统包括一个真空室，一个与真空室耦合的远程自由基生成系统，一个与自由基生成系统耦合的自由基气体分配系统用来分配活性自由基到基底上，还有与真空室耦合的高温底座用来支持基底。这种气体分配系统可以有效把自由基的传送到基底并且分配自由基到基地上。