公开号：	US2007257011A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	在浸洗过程中用于低变动处理的先进过程控制
摘要：	处理半导体装置的浸洗过程的易变性可以通过启动处置过程的终止而被显著降低，这种方法主要根据预先设定的终止协议，协议主要考虑到终止处理是在浸润处理过程中处理进行的贡献。在首选的装置中，实时处理过程的条件被监测，而对终止过程开始的计时以进程中所计算出的处理量和处理速率为基础。