公开号：	US2007295356A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	在真空等离子体处理工具中减少粒子污染的原位方法
摘要：	本发明所体现的方法和设备应用了一种原位粒子净化技术，可以使晶片在真空设备或是沉积室中也可以使用这种净化，因此就去除了对另外净化装置的需要。这种原位净化对粒子的污染，例如来自工具中常用机械元件的污染，可以有效的去除。此外，粒子的净化是在射频条件有等离子体存在下进行的，具有最大化利用自偏压的潜力，并且被归为真空的处理过程。