公开号：	US2007262052A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	薄膜清除方法与设备
摘要：	一种从基底上清除薄膜的方法与设备被揭示出来。这种方法包含步骤如下：在基底上放置一个等离子体产生器与一个抽吸装置，从等离子体产生器中发射一道等离子体斜射在薄膜上，将抽吸装置放在等离子体反射方向，并且抽吸由于在薄膜上发生不完全的等离子反应产生的副产品来保持基底表面清洁，这种设计着眼于克服由于在大气环境下利用等离子体作为表面清洗方式而产生的副产品的沉积的缺点。