公开号：	US7464663B2
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	滚轴涡旋等离子体气相沉积系统
摘要：	这个系统包含一个用于在低压下维持氢等离子体的处理室。这个处理室有一个长的、宽的、薄的形状有利于在室壁之上的片状基底上沉积薄膜状的硅。这个片状基底在两端之间移动。在加工工件上下方相对的一对高频电极被强烈电驱动从而在处理室中间的空间内生成一个平坦的，薄饼状的等离子体云。