公开号：	US2006118523A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	一种增加膜平整性同时减少物质损失方法
摘要：	本专利涉及一种在洁净基底上制备具有凹凸特点平整膜层的方法。只在凹的部位而不在凸的部位形成掩膜。凸出的膜层表面被刻蚀，但是掩膜下部凹下去的部位不被刻蚀。对膜层表面进行连续刻蚀，直到膜层突出部分被刻蚀到与凹进的部分一样高度，因而得到了最初的平整膜层表面。从膜层表面除去掩膜，得到完全平整的膜层表面。