公开号：	US2006137710A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	一种抑制基底腐蚀的方法
摘要：	本发明涉及一种抑制基底腐蚀的方法。一方面，抑制基底刻蚀的方法包括：提供一种表面有金属残留的拥有图案化光刻胶涂层的基底，在氢等离子体下除掉金属残留，除去光刻胶。残留金属可能是在刻蚀过程中铝和铜中的一种残留。金属残留还可能含有卤气刻蚀含金属聚合物过程中形成的卤化物。氢等离子可能由氢气(H<SUB>2</SUB>)，以及氮气(N<SUB>2</SUB>)和水蒸气(H<SUB>2</SUB>O)中的一种或两种构成。氢等离子体还可能含有钝化气体，不如氩气。