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企业难题需求
公开号: US2007051638A1
大类:国外
行业类型:化学
行业内分类:金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名:一种制备半导体器件的电解抛光液及电解抛光的方法
摘要:本发明中涉及到增加导电性但不会引起抛光磨料颗粒凝结或沉淀的方法。另外,在需抛光的金属膜或金属线表面上实现良好的平整性,而不引入缺陷。利用电抛光方法,通过移除与金属膜表面滑动接触的抛光垫,实现需抛光的金属膜面平整化,同时通过在电解抛光液E中的电解作用使金属膜表面氧化。电解抛光液E的组成是:至少一种抛光磨料颗粒,以及带有静电电荷的抛光磨料颗粒的电解质。由于用到的电解抛光液具有高的导电性,所以能够获得高的电解电流并增大电极间的距离。此外,在本电解抛光方法中,使用了含有分散良好的抛光磨料粒子的溶液,因此避免了抛光过程中抛光磨料粒子和刮搽引起的缺陷的残留。
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