公开号：	US7344432B2
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	一种电化学机械抛光中使用的带有离子交换膜的导电垫子
摘要：	本发明涉及一种基底表面加工的加工物件和设备。一方面，提供了一种抛光基底的加工物件，抛光物件包括了至少含有部分导电性抛光表面的支架。将电极放置在抛光表面一下，中间用介电材料分隔开。在抛光表面和介电材料中形成大量的孔，从而使电极至少有有部分暴露在抛光表面下。在电极和抛光表面之间沉积一层离子和电流可以渗透的膜层，从而促进电极和抛光表面之间的连续性。