公开号：	US2007181165A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	金属材料的缓蚀、防积垢及除油
专利名：	电子器件衬底表面脱模和清除有机物的方法
摘要：	本发明涉及一种从大的暴露面积的衬底（至少0.25平方米）清除有机物的方法。该衬底可以组成电子器件。暴露的表面可以用含有臭氧和乙酸酐的溶液进行处理脱模。用于脱模溶液的溶剂是含有乙酸酐，从2到4个碳的碳酸盐选择的共溶剂和乙二醇二醋酸酯组成。在有些情况下，该脱模溶液仅含有乙酸酐和臭氧，其中臭氧的浓度大于300ppm。