公开号：	US2006201412A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	单晶、多晶等相关材料的制备方法
专利名：	制备具有降低的散射强度的高均一的低压单晶的方法
摘要：	这种方法用来制造高均一的低压单晶，特别是氟化钙的单晶。通过合适的步骤从一个熔融装置中提取的单晶被冷却随后受到热处理。这种方法特别的是它在小于等于1300°C和大于等于1050°C的温度范围内被迅速冷却，其冷却速度为大于等于10K/h，最好小于等于60K/h。