公开号：	US2006231017A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	单晶、多晶等相关材料的制备方法
专利名：	原子层沉积法和化学气相沉积方法
摘要：	这个发明包括原子层沉积法和化学气相沉积方法。这个发明有一个特定的方面，就是一个反应室有一个微波辐射源。当前体物质没有暴露在微波辐射源时，在反应室中至少一个前体物质碎片能被基底化学吸收。过剩的前体材料被从反应室中移除，随之化学吸收材料就被暴露在反应室中的微波辐射源下。