公开号：	US2006291834A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	单晶、多晶等相关材料的制备方法
专利名：	热处理基底的方法和装置
摘要：	公开的专利是用一种简单和经济的方式使用高温计测量温度，实现更精确的温度测量，甚至测量较低的温度。这个公开显示了一种热处理基底的方法和装置，其中基板暴露在至少一个第一和至少一个第二辐射源；第一个预定的波长在第一辐射源和基底间被吸收；使用与第二个辐射源在同一边的辐射探测器在预定的波长上测量基底的辐射；调制并决定第二辐射源的辐射。