公开号：	WO2006081104A2
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	单晶、多晶等相关材料的制备方法
专利名：	半导体晶片竖炉
摘要：	一个在竖炉中用于对半导体晶片进行热处理的晶片船包含一个通常竖直展开的支架棒。骨架被支架棒的竖直面支持并沿着竖直面展开，调整晶片承载平台使其被通常处于不同平面内的骨架支持。调节骨架使其位于晶片承载平台之下并且在支点支持载物台。骨架和晶片承载平台分别有一个第一整体最大厚度，至少有一个骨架和晶片承载平台的支点有比第一整体最大厚度小的第二大厚度。