公开号：	US2006177745A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	相位改变屏蔽
摘要：	相位改变屏蔽（PSM）被提供。PSM包含光传送基板，光阻挡区域，第一光传送区和第二光传送区。光阻挡区域在光传送基板上形成。第一光传送区形成在传送0°相位改变光的第一相位改变区域和TE偏振传送光的第一偏振区域。第二光传送区域接触第一光传送区域形成分界线。第二光传送区域形成在传送180°相位改变的第二相位改变区域的光传送基板和TM偏振传送光的第二偏振区域阻止边界的相位冲突。