公开号：	US2008161202A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	组合化学及化合物库相关方面
专利名：	一种新颖的微阵列结构中的背景表面性质选择规则的新策略及消除微阵列自淬灭的方法
摘要：	本发明涉及到一种阵列结构中的背景表面性质选择规则，具体是添加能够在位点和背景表面上形成核苷酸和氨基酸键的一级结构嵌段分子，添加保护在位点上的一级结构嵌段分子的一级保护基团，加入保护在背景表面的一级结构嵌段分子的二级保护基团，其中一级保护基团与二级保护基团的不同有说明。发明涉及到含有基板的阵列，基板表面由支化分子组成，其中支化分子的一个末端与基板表面接触，另一个末端有很多分支，分支间存在间隔使分支伸展开，荧光团分子与这些分支相粘，其中两个荧光团分子间的平均空间距大于10nm。