公开号：	US2006187436A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	在光刻系统改进焦距精度的方法和系统
摘要：	聚焦系统包含校准子系统和控制子系统。包含控制传感器的控制子系统贴近陈列的图像。包含校正传感器和控制传感器的校准子系统位于远离离轴陈列图像。通过分开校准和控制功能，功能性的需求能被分成两个（或更多）类型的传感器。