公开号：	US2006176490A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	测量
专利名：	温度/厚度测量装置、温度/厚度测量方法、温度/厚度测量系统、控制系统和控制方法
摘要：	在本发明的仪器中，从光源出来的光被分为测量光束和参考光束，参考光束的光程是可变的，另外在测量目标和参考光束处反射而成的测量臂干扰形成的测量光束干扰波形也会被检测到。其中之一的干扰波形被设计为参考干扰波形，另外一个在测量目标末表面被反射两次的干扰波形而不是在测量臂处的参考干扰波形被设计为一个挑选出的参考波形，基于这些干扰波形，以两个测量目标末表面距离来表示测量光束的光程，测量目标的温度与决定光程的因素相一致。