公开号：	US2008020303A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	接触光刻校准
摘要：	接触光刻系统包括：一个模式工具，具有传输到基底的模式；至少一个耦合到模式工具中的校准工具，用于在模式工具和基底之间对模式工具接收的模式进行测量校准。接触光刻方法包括校准具有转移基底模式的模式工具，对模式工具接收到的模式进行校准，使用至少一个耦合到模式工具中的校准装置。