公开号：	US7271394B2
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	测量
专利名：	自准直真空紫外光反射计
摘要：	提供了一的光谱系统用于在VUV区域优化操作并能够在DUV-NIR区域有很好的表现。系统还提供一控制环境位于VUV源，样本室和VUV探测器之间，其作为在可重复方式限制吸收VUV光量子。光源被用来创造一光束穿过至少部分环境控制室。光束可能是某位置的准直光束，在此位置光束穿过至少两个环境控制室之间。提供一耦合机械装置可能光学耦合至少两个环境控制室。提供的准直光可能穿过耦合机械装置。阵列基底探测仪器可能被利用以允许大波长区域的同步收集。