公开号：	US2006197950A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	测量
专利名：	通过目标图像的对称性来测量覆盖物误差的方法和系统
摘要：	本文提出一种方法和系统基于目标图像的均匀性来测量半导体制造业中的覆盖物误差。所以使用微小芯片的优势就能实现了，同时能减少甚至消除其缺点。在现有的测量系统的基础上，我们就能通过测量不对称性来测量覆盖物的误差。这些方法允许半导体制造和类似层形设备的改进制造。