公开号：	US2006108321A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	蚀刻设备
摘要：	蚀刻设备能够增加蚀刻玻璃基片的效率。目前的发明包括装有蚀刻剂的蚀刻缸、里面装有蚀刻剂探测水平的蚀刻缸的多元化传感器和去除粒子水的传感器的喷洒软管。