公开号：	US2006119820A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	曝光装置和设备的制作方法
摘要：	一个照明系统安排限制的放射光束在一个平板的投影仪上，一个支撑结构来配置保持图形设备，图形设备能够通过这种模式来发射放射光束，基片表来配置基片。另外，一个液体供应系统要求提供液体到在投影系统和基片之间的空间，液体供应系统有成员扩展到空间的边缘，在那里成员有一个面对基片的液体入口。