公开号：	US2006170893A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	光刻曝光装置
摘要：	设计包含对光敏感层设备增长的光刻曝光装置，曝光单元包含激光辐射源和连接激光辐射源的光学聚焦手段。移动单元在光学聚焦方式、增长设备和控制曝光点之间产生相关的移动，曝光点采用这种能产生精确结构来曝光的结构，表面光学聚焦方法使来自贴近光敏感层的激光辐射源镜头末端产生激光辐射焦点的输出。激光辐射区域在光学敏感层的方向传播，产生来自各自焦点的曝光点，并且在光敏感层的转换区域有一个密集的能量来穿过光敏感层信息通道。光敏感层由于克尔效应和空间限制方式，激光辐射区域来增加周围环境的相关折射率。