公开号：	US2006175286A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	制造LCD设备的方法
摘要：	制造LCD设备的TFT平板的方法包括包含高熔点金属薄膜（HMPM）的湿刻多层金属结构的步骤，通过使用光阻蚀刻屏蔽侧边技术的A1薄膜和另一个HMPM薄膜，在湿刻之后冲洗A1薄膜侧壁的热水，在每一个像素TFT通道区使用干法蚀刻技术和去除光阻蚀刻屏蔽的技术。光阻蚀刻屏蔽的存在和阻止A1腐蚀的保护薄片引起通过干法蚀刻技术蚀刻气体等离子。