公开号：	US2006175287A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	CMOS显微镜成像和制作显微镜的方法
摘要：	显微镜和制作显微镜的方法被提供。显微镜包含位于基底的基板和镜头材料，凹区供应的镜头材料的模具基板。凹区能设计改正光学偏差的镜头材料。显微镜可能是显微镜阵列的一部分。凹区能为镜头阵列供应镜头材料的模具并且能设计包含弓形的，非球面的，非对称的显微镜的显微镜阵列。