公开号：	US2006176455A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	曝光装置
摘要：	曝露经由刻线光基板的曝光装置包含设定在基板上投影刻线图案的投影光学系统。配置提供液体到投影光学系统和光穿过的基板之间区域的喷嘴，循环供应喷嘴的液体的循环装置和调节循环系统中液体温度的第一温度调节器。