公开号：	US2006197933A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	曝光装置
摘要：	一个曝光装置包括一个投影光学系统，其用于对一个光罩投影到一个板上对其曝光，和一个光瞳滤波器，其包括由外部第一区域形成的一个一级区域和一个二级区域，第一区域为一个低阶衍射光可以通过光罩为圆形区域，第二级区域为一个不包含低阶衍射的高阶衍射光可以通过光罩为环形区域，并且插入了高阶衍射光的半个相位，排除高阶衍射光。