公开号：	US2006197934A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	曝光方法和装置
摘要：	通过投影光学系统将孔模和平板密切联系起来，对孔模的曝光步骤包括照明过程，其对双模中的一个和一个衰减相位偏转膜进行照明，通过光源的照明光和照明光学系统其与孔模建立了密切的联系，其中照明步骤使用离轴照明，当值为有密切联系孔模中的两个相邻联系孔的中心间隔的一半时，其在切线方向偏振并且通过lambda/NA为0.25x√2或更小时规范化，其中lambda为光的波长，NA为像方投影光学系统的数值孔径。